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先進院科技PEN鍍銅膜是一種采用聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)為基材,通過精密工藝在其表面鍍覆銅層的高性能復合材料。該材料結合了PEN的優(yōu)異熱穩(wěn)定性、尺寸穩(wěn)定性和耐化學性,以及銅的高導電性,特別適用于柔性電路板、太陽能電池、電磁屏蔽和高端電子器件等領域。其獨特的性能使其在高溫、高精度要求的應用中表現(xiàn)出色,滿足了現(xiàn)代科技對材料的嚴格需求。
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先進院科技PEN鍍銅膜是一種通過特殊工藝將銅層沉積在聚酯薄膜表面的工藝,PEN鍍銅膜以其優(yōu)異的柔韌性、導電性、耐腐蝕性和耐高溫性等特性,在柔性電子、電容器、LED顯示屏等多個領域具有廣泛的應用價值和發(fā)展?jié)摿Α?/p>

產品特性
優(yōu)異的柔韌性:PEN基材本身具有非常好的柔性,鍍銅后仍然能夠保持其柔性特性,這使得PEN鍍銅膜非常適合用于柔性電子產品的制造,如可彎曲的電子設備、可卷曲的顯示屏等。
良好的導電性:銅是優(yōu)良的導電材料,鍍銅后的PEN膜能夠提供良好的導電性能,滿足電子電路對導電性的高要求。
卓越的耐腐蝕性:PEN鍍銅膜具有很好的耐腐蝕性,可以抵抗多種化學介質的腐蝕,這有助于延長產品的使用壽命,提高產品的可靠性。
耐高溫性:PEN基材具有較高的熔點(265℃)和加工溫度(280℃),使得PEN鍍銅膜能夠承受高溫環(huán)境,適用于一些對溫度要求較高的應用場景。
耐磨損性與耐沖擊性:PEN鍍銅膜還具有良好的耐磨損性和耐沖擊性,能夠有效抵抗外界的磨損和沖擊,保護電路和元件不受損害。

生產工藝
PEN基材準備:選擇優(yōu)質PEN薄膜作為基材,進行清洗、干燥等預處理工作,確?;谋砻娓蓛魺o雜質。
表面處理:為了提高銅層與PEN基材之間的結合力,通常需要對PEN表面進行預處理,如化學刻蝕、等離子處理等,以增強表面的活性和附著力。
鍍銅層沉積:采用真空鍍膜技術(如真空磁控濺射法或真空蒸鍍法)在PEN基材表面沉積一層均勻的銅鍍層。這一步驟需要準確控制鍍膜條件(如溫度、壓力、時間等)以確保鍍層質量。
后處理:對鍍銅后的PEN膜進行清洗、干燥、平整等后處理工作,以提高產品的外觀質量和性能穩(wěn)定性??赡苓€需要進行光刻等工藝以形成特定的電路圖案。
車間展示


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